Новый полимер может усовершенствовать процессы производства и упаковки полупроводников. Исследователи факультета физики и центра интегрированной электроники из политехнического института Rensselaer разработали недорогой быстросохнущий полимер, благодаря которому может появиться возможность значительно сократить издержки и повысить эффективность работы в промышленности производства полупроводников и упаковки для компьютерных микросхем. Выше приводится изображение нового полимера PES (полисетный эпоксидный силоксан), который используется в фотолитографии, полученное при помощи сканирующего электронного микроскопа. Показанные на нем прямые боковые стенки демонстрируют хорошие характеристики материала в области формирования фотоизображений.
Помимо потенциального повышения эффективности и сокращения издержек в традиционных процессах фотолитографии, новый материал под названием полисетный эпоксидный силоксан (PES), также, по словам исследователей, позволит создать новое поколение технологии для более дешевой нанопечатной литографии на микросхемах. «При помощи этого нового материала производители микросхем смогут сократить процессы производства и упаковки на несколько этапов, что в свою очередь позволит сократить издержки», говорит То-Мин Лю, Профессор физики имени Р.П. Бейкера в институте Rensselaer, осуществлявший наблюдение за исследованием. «PES дешевле и надежнее.” 
Изображение, полученное при помощи сканирующего электронного микроскопа, показывает оттиски каналов и двойные узорные структуры, созданные при помощи PES в ходе нового процесса литографии с использованием молекул. Это позволяет оценить потенциал PES в области микросхем. Исследование профессора Лю было опубликовано в журнале Journal of Vacuum Science and Technology B. Широко применяемая методика фотолитографии включает в себя использование света и химикатов для создания сложных микро- и наношаблонов на крошечных площадях поверхности кремния. В рамках этого процесса на кремниевую пластину накладывается тонкая полимерная пленка, которую называют перераспределяющим слоем, чтобы уменьшить задержку при движении сигнала и защитить микросхему от различных природных и механических факторов. Это имеет важное значение для эффективности конечного устройства. Новый материал PES, разработанный группой Лю и компанией Polyset Co., представляет собой одну из таких тонких полимерных пленок. Он обладает несколькими преимуществами перед материалами, которые преобладают в производстве полупроводников. К тому же, новый материал PES можно использовать и в качестве тонкой полимерной пленки для технологии ультрафиолетовой нанопечатной литографии на микросхемах, которая все еще находится на ранних этапах развития. По словам Лю, постоянное использование микросхем в традиционной технологии, а затем продолжение его использования, когда ученые и промышленность будут тестировать следующее поколение устройств и постепенно переходить на него, позволит облегчить процесс перехода. | 
